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美國一直通過卡住芯片設(shè)備，來限制中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

因?yàn)樾酒圃煨枰獛装俜N設(shè)備，缺一不可，而中國自己的設(shè)備技術(shù)相對(duì)落后一些，所以美國認(rèn)為，只要卡住先進(jìn)設(shè)備賣給中國，就卡住了中國芯片產(chǎn)業(yè)。

為此，他拉上荷蘭，日本一起，限制先進(jìn)設(shè)備銷售。

在這樣的情況之下，我們能怎么辦？只有咬著牙，與國產(chǎn)供應(yīng)鏈一起，進(jìn)行國產(chǎn)替代。

因?yàn)閯e人都要卡死你，讓你沒有飯吃了，不國產(chǎn)替代還能怎么辦？就算國產(chǎn)的技術(shù)差一點(diǎn)，生態(tài)弱一點(diǎn)，也得硬著頭皮用，多用用，收入有了，市場有了，自然技術(shù)就突破了，生態(tài)就完善了。

于是，晶圓廠與國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠一起努力，先從低端的，好替代的替代起，再逐步向中、高端的，難替代的努力，一步一個(gè)腳印。

數(shù)據(jù)顯示，2017年時(shí)，國內(nèi)芯片設(shè)備的國產(chǎn)化率還不到10%，前道大約在4%，后道在18%，而到了2021年，則達(dá)到了15%左右，前道在10%，后道在19%。

到了2025年，前道達(dá)到了21%，后道達(dá)到了36%，總體在25-28%左右了。

而按照機(jī)構(gòu)的預(yù)測，到2026年，總體的國產(chǎn)化率有望達(dá)到40%以上，其中前道會(huì)在30%以上，而后道有望高達(dá)50%以上。

而具體來看，像清洗設(shè)備的國產(chǎn)化率會(huì)超過過30%、刻蝕設(shè)備超過35%、CMP設(shè)備超過40%以上，另外在28nm及以上的工藝上，國產(chǎn)化率會(huì)高達(dá)35%以上。

特別是一些新建的生產(chǎn)線，如果是28nm及以上的工藝，設(shè)備國產(chǎn)化率會(huì)超過60%，大部分用國產(chǎn)，而老的設(shè)備，因?yàn)榭紤]到與其它設(shè)備的兼容性問題，國產(chǎn)化率會(huì)稍低一點(diǎn)。

我想，這樣的結(jié)果，是美國萬萬沒有想到的吧，畢竟美國以為鎖住了芯片設(shè)備，就以為是鎖住了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，不曾想，這樣反逼著我們?cè)谛酒O(shè)備上突破。

并且隨著我們不斷的突破，未來美國在芯片設(shè)備上，就再也鎖不住我們了。

當(dāng)然，話又說回來，目前在芯片設(shè)備這一塊，我們更多國產(chǎn)化的還是中低端的，一些先進(jìn)的設(shè)備還是不行，特別是7nm以下工藝的，還是較為依賴進(jìn)口。

尤其是光刻機(jī)，確實(shí)與ASML還差的遠(yuǎn)，這也是我們接下來要努力攻克的目標(biāo)，否則別人只要卡住一臺(tái)光刻機(jī)，就相當(dāng)于卡住了全部了。